乍一看光刻机和蚀刻机非常接近，但是光刻机和蚀刻机却不能混为一谈，因为蚀刻只是制造芯片其中之一的环节罢了。而刻蚀机也只是诸多芯片制造设备其中之一。下面我给大家聊一下蚀刻机。
刻蚀机和光刻机的区别
工作原理不同
如果把制造芯片比喻成盖房子，那么光刻机的作用就是把房子的结构标注在地上。刻蚀机就是在光刻完成以后才登场的设备，也是光刻完成以后最为重要的设备之一。刻蚀机最主要的作用就是按照光刻机已经标注好的线去做基础建设，把不需要的地方给清除掉，只留下光刻过程中标注好的线路。
结构不同
光刻机的最主要的核心技术就是光源和光路，其光源和光路的主要组成部分有四个，光源、曝光、检测、和其他高精密机械组成。对比之下，蚀刻机的结构组成就要简单很多，主要是等离子体射频源、反应腔室和真空气路等组成。
售价不同
ASML的EUV光刻机单台售价高达1.2亿美元，而蚀刻机的售价就要低很多了，每台售价在几十万到几百万美元之间。
蚀刻机的相关工作原理我之前有发文，有感兴趣的可以去我主页去找，这里我也不再过多叙述。
国产蚀刻机就给我国半导体领域做了一个很好的榜样，我国中微半导体研发出国际主流的5nm蚀刻机并取得台积电的认证后，美国商务部就把蚀刻机从对华出口限制清单上移除了。这充分说明了一件事情，只要自己有了核心技术，对手就没法再打压你。
总体来说，我国在半导体领域还相对比较落后，还有较长的路要走，但是只要我们坚持走下去，就一定可以看见彩虹。
